填料塔設(shè)備是指流體阻力小，適用于氣體處理量大而液體量小的過程。液體沿填料表面自上向下流動(dòng)，氣體與液體成逆流或并流，視具體反應(yīng)而定。填料塔設(shè)備內(nèi)存液量較小。無論氣相或液相，其在塔內(nèi)的流動(dòng)型式均接近于活塞流。若反應(yīng)過程中有固相生成，不宜采用填料塔設(shè)備，填料塔設(shè)備在塔內(nèi)充填各種形狀的填充物（稱為填料），使液體沿填料表面流動(dòng)形成液膜，分散在連續(xù)流動(dòng)的氣體之中，氣液兩相接觸面在填料的液膜表面上。它屬膜狀接觸設(shè)備  
填料塔設(shè)備的結(jié)構(gòu)原理
填料塔設(shè)備是以塔內(nèi)的填料作為氣液兩相間接觸構(gòu)件的傳質(zhì)設(shè)備。
填料塔設(shè)備的塔身
是一直立式圓筒，底部裝有填料支承板，填料以亂堆或整砌的方式放置在支承板上。
填料的上方安裝填料壓板，以防被上升氣流吹動(dòng)。
液體從塔頂經(jīng)液體分布器噴淋到填料上，并沿填料表面流下。
氣體從塔底送入，經(jīng)氣體分布裝置（小直徑塔一般不設(shè)氣體分布裝置）分布后，與液體呈逆流連續(xù)通過填料層的空隙，在填料表面上，氣液兩相密切接觸進(jìn)行傳質(zhì)。
填料塔設(shè)備屬于連續(xù)接觸式氣液傳質(zhì)設(shè)備，兩相組成沿塔連續(xù)變化，在正常操作狀態(tài)下，氣相為連續(xù)相，液相為分散相。
當(dāng)液體沿填料層向下流動(dòng)時(shí)，有逐漸向塔壁集中的趨勢(shì)，使得塔壁附近的液流量逐漸增大，這種現(xiàn)象稱為壁流。
壁流效應(yīng)造成氣液兩相在填料層中分布不均，從而使傳質(zhì)效率下降。
因此，當(dāng)填料層較時(shí)，需要進(jìn)行分，中間設(shè)置再分布裝置。
液體再分布裝置包括液體收集器和液體再分布器兩部分，上層填料流下的液體經(jīng)液體收集器收集后，送到液體再分布器，經(jīng)重新分布后噴淋到下層填料上。
填料塔設(shè)備具有生產(chǎn)能力大，分離效率，壓降小，持液量小，操作彈性大等點(diǎn)。
填料塔設(shè)備也有一些不足之處，如填料造價(jià)；當(dāng)液體負(fù)荷較小時(shí)不能有效地潤(rùn)濕填料表面，使傳質(zhì)效率降；不能直接用于有懸浮物或容易聚合的物料；對(duì)側(cè)線進(jìn)料和出料等復(fù)雜精餾不太適合等。